Ultim^® Extreme

Ultim Extreme是高分辨率场发射扫描电镜应用中的一个突破性解决方案。该探测器实现了在低的加速电压（例如1-3kV）和非常短的工作距离下进行EDS数据采集和元素分析，从而在高SEM分辨率下分析纳米材料和表面的元素信息。

高分辨率场发射扫描电镜可以用来研究更小的纳米结构、界面和表面。然而，在这些分析条件下，工作距离很小，工作电压非很低，束流需要尽可能小以充分利用镜筒内探测器的电子信号，但现在没有EDS可提供此类元素表征。Ultim Extreme的出现改变了这种现状，它专为此类分析而设计：

• 优化的几何设计
  
  • 在更小的工作距离下工作
  • 在传统EDS安装接口上使立体角尽可能提高。立体角通常比Ultim 170大5倍，传感器与试样的距离缩短为普通探测器的一半
    
    
• 无窗设计
  
  • 与任何其他大面积探测器相比，立体角提高的同时，对低能端X射线的灵敏度提高了10～30倍
• 新型电子电路提高对极低能量X射线的灵敏度， 增强了高计数率下低能量X射线的分析能力
• 将AZtec Live和Tru-Q ®分析引擎结合实现低加速电压下的数据处理和分析
  
  • 优化TruMap用于低电压谱峰重叠校正

为了实现这种几何结构，Ultim Extreme采用非圆形100mm2传感器和无窗设计，这种设计已成功用于X-Max N 100TLE，以优化TEM的灵敏度。此外，该探测器采用新型的体积更小的的电子陷阱设计，可在高达7kV的电压下进行准确的定量分析，并在较高能量下进行元素定性分析。