Ultim Extreme Infinity ∞

从纳米尺度探索无限可能!

Ultim Extreme ∞(“Infinity”)是为超高分辨率场发射扫描电子显微镜(FEG-SEM)设计的开创性解决方案。即便是在达到SEM分辨率极限的条件下,这款独特的探测器仍能够在极低的加速电压下(例如1-3 kV)和极短的工作距离内收集能量色散X射线光谱(EDS)数据,从而分析纳米材料和表面成分。由于采用了独特的技术方案,如特殊形状的传感器、无窗设计、更近的探测距离、小型电子陷阱以及极高的立体角,该探测器具有了更强的灵敏度。

独特的设计可以使这款探测器更轻易表征纳米结构和检测轻元素。

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为什么选择 Infinity?

Ultim Extreme Infinity 提供超越传统微米和纳米分析的解决方案:

  •   Ultim Extreme Infinity 的每台设备都单独进行测试,具有超过传统探测器的典型性能。
  •  由于采用了独特的技术方案,如特殊形状的传感器、无窗设计、更近的探测距离、小型电子陷阱以及极高的立体角,保证了更好的灵敏度。立体角是传统100mm²EDS探测器的7-8倍。

✔️ 极致的性能

这是一款在低能端具有出色性能的无窗 EDS 探测器,在计数率高达 50,000 cps 的情况下,CK 的分辨率可达 46 eV 或更高。

✔️ 优异的高空间分辨率

在使用极低电压分析样品时,出色的低能端X射线分辨率尤为重要。使用 TruMap 处理数据可以消除 SL/NbM 和 MoM 的元素重叠。

✔️ 使用 Tru-Q IQ 解决更多难题

轻元素信号的大幅增加可实现快速采集和实时数据处理。

✔️ 更快、更准确的纳米表征

轻元素信号的大幅增加可实现快速采集和实时数据处理。

✔️ 在相同条件(WD、电流、电压)下进行纳米级分辨率成像和元素分析


在保障观察结构所需的成像条件下,获得精细的特征信息

✔️ 高轻元素灵敏性和分析电子束敏感材料

Ultim Extreme Infintiy可将氮等元素的可探测性提高到新的水平。

改进的几何形状带来更好的效果

✔️ 在相同条件(WD、电流、电压)下进行纳米级分辨率成像和元素分析

< 3 kV,甚至低至 1 kV,低电流(100 pA),短 WD(<5 mm,用In-Lens进行成像)。

✔️ 更快、更准确的纳米表征

快速采集、实时处理来自块状样品的数据,并显著增强来自小特征物/低含量物相的信号。

✔️ SEM-EDS 的终极空间分辨率

在 FEG-SEM 中进行 10 纳米以下的元素表征。


✔️ 极高的轻元素灵敏度(Be-F),特定情况下可探测 Li元素*

氮和氧等元素的可探测性达到新水平。

✔️ 表面科学灵敏度

可低至1kV在 SEM 中进行表面表征,不再使用 TEM 或表面科学工具。

✔️ 低损伤分析

可分析束流敏感型材料获得准确和有用的EDS数据(生物、聚合物)。

*要求样品可以激发出Li元素的K线系​

为什么需要成像条件

保证纳米分析的性能

在低加速电压 (kV) / 短工作距离 (WD) 下工作

必须在低加速电压和低束流条件下,才能在扫描电子显微镜上实现纳米级空间分辨率。这也意味着 X 射线数据需要在这种苛刻的条件下采集。在这种条件下,X射线扩展范围小且强度低,并且只有少量低能端X射线被激发。

这些条件都超出了传统 EDS 的能力范围。在能看到样品微小结构的条件下表征,导致产生的 X 射线信号量急剧减小,计数率非常低。谱图中的线系会变得复杂且十分相近。

与传统的 10kV -20kV 分析相比,纳米成像条件下的 X 射线分析面临以下一些主要挑战:

  • 计数率降低约7倍
  • X射线能量降低约9倍
  • 谱峰分离度减小约7.5倍

无与伦比的分辨率

由于低能 X 射线峰间距近、强度低,解读低能 X 射线数据非常困难。因此,准确解读谱图信息(如谱峰重叠和Auto ID)需要尽可能高的谱图分辨率。在分析谱图的低能端时,碳峰 (CK) 的分辨率尤为重要,而锰 K (MnK) 线甚至可能不存在。

C 分辨率:在谱图中的低能端具有高的能量分辨率是尤其重要的。能量分辨率越高,峰值越清晰,峰位越正确(无偏移)。

相较于测量标准样品(如 BN)的较高谱图分辨率,在分析实际样品时分辨率才是真正的差异所在。下面的视频展示了不同能量分辨率下收集到的谱图。视频展示了在能量分辨率较低(>60eV)的情况下,S L、N K、Nb M 谱峰无法与背景区分开来,Cr L 线也无法与 O K 区分开来。如果探测器具有出色的能量分辨率(<46eV),那么就有可能解决谱峰重叠和探测低强度信号。

高空间分辨率下的出色表征

出色的低能端能量分辨率意味着高空间分辨率下的出色表征。正确显示元素分布需要高谱图分辨率。虽然低分辨率(>60 eV)和高分辨率(<46 eV)在不进行谱图处理(积分图)的情况下显示的某些信息相似。然而,在某些相中,元素浓度是明显不同的。只有在探测器低能端分辨率足够高(小于 46eV)的情况下,使用 TruMap 处理数据才能找出 S L/Nb M 和 Mo M 重叠,从而准确显示元素的变化。

什么是 Tru-Q IQ

Tru-Q® 技术是在 2011 年与 AZtec Energy 一起推出的,彻底改变了 EDS。在同步加速器上进行基本 EDS 探测器校准,能够在扫描电镜上准确表征每种探测器类型。利用这种表征,Tru-Q 在定量分析、自动识别、谱峰去卷积和实时图谱校正方面实现了新的准确性和可靠性。

通过观看我们的网络研讨会了解 Tru-Q 如何彻底改变了无标样定量分析:定量 EDS 解释:如何获得出色结果

Tru-Q IQ 将测试提升到一个新的高度,每台 Ultim Max Infinity 探测器在制造过程中在扫描电镜上进行表征,然后进行单独的探测器优化。此优化在安装到每台扫描电镜上时得到确认。这为每个 Infinity 探测器提供了优良的性能,能够很好地应对更为复杂的分析挑战,解决具有挑战性的低能端谱峰重叠问题,并找到更低含量的元素。

Tru-Q IQ 可以与谱图数据完美拟合,意味着可以在 NbL 和 MoL 线的复杂重叠下识别出磷等次要元素。​

使用 Tru-Q IQ 解决难题

Tru-Q IQ可以应对困难的分析挑战 。示例显示了在低电压条件下的半导体分析。在分析具有纳米级结构的样品时,钛的信号很弱。如果不对单个探测器进行优化,由于信号较低以及与 NK 重叠,AutoID 无法识别 Ti。通过对每个探测器进行特性分析和优化,即使在分析低强度和重叠峰(如 TiL)时,AutoID 也能识别出该元素的存在,并得出关于 TiN 层存在的正确结论。

    特性和优化

    探测器的分辨率并不是唯一的参数。在对探测器进行单独的特征分析和优化(独特的全新 Tru-Q IQ)后,可以获得更好的结果。如果探测器的低能端分辨率足够高,TruMap 就能区分粗 SiL/CrL/OK/MoM 重叠,从而绘制出准确的 X 射线面分布图。不过,我们还能获得更好的结果,因为在探测器优化后,低能端线系拟合得到改进,从而提高了AutoID 的可信度,进而更好地显示元素分布。通过确定探测器的特性并优化探测器,可以纠正峰形和位置的变化。在这里,我们可以看到,如果不对探测器进行优化,钼信号就会丢失,而且铌/钼重叠的去卷积也不完全。

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    Ultim Max Infinity ∞ detector

    Ultim Max Infinity ∞ 探测器

    Ultim Max Infinity EDS 探测器释放了 EDS 在扫描电子显微镜中表征材料的无限可能。它们同时具有极高的准确性、灵敏度和速度,为 AZtec Live 软件提供动力,以解决更复杂的分析难题。它为纳米表征和轻元素检测、更精确的分析以及微观结构的高计数率面分布图提供了终极解决方案。

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    Xplore for SEM

    用于 SEM 的 Xplore

    Xplore EDS 探测器专为 SEM 中的常规分析而设计。它包含Ultim Max 大面积探测器相同的成熟技术,因此用户可以期待相同的高质量结果,但包装要小得多。Xplore补充了EDS产品线,意味着AZtecLive实时化学成像现在可供所有用户使用。

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    Unity Detector

    Unity 探测器

    BEX是扫描电子显微镜( SEM )中革命性成像技术的新型探测器(同时收集背散射电子和X射线信号)。 Unity包含了一台BEX探测器以及一台常规EDS。 当移动样品时,它可高效地同时获得背散射电子和X射线信号,提供包含有元素信息的彩色图像。

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