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AZtecHKL

AZtecHKL是强大的EBSD软件。它为常规分析提供速度和结果准确性的组合,以及推进EBSD前沿应用所需的灵活性和能力。

  • 先进的EBSD软件,具有实时数据采集和分析的功能

  • 释放基于CMOS的EBSD探测器(Symmetry)的潜力

  • AZtecSynergy无缝集成并同时采集EBSD和EDS

  • 标配透射菊池衍射(TKD,原名t-EBSD)功能


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具有出色的广度和准确性的AZtecHKL,是认真对待EBSD分析的人的必备工具……

AZtec结合了牛津仪器对实际客户就常规EBSD分析需求的了解, 以及推动EBSD前沿应用所需的灵活性和能力。

AZtec由拥有全球客户支持和40多年纳米分析经验的供应商开发,可满足纳米尺度分析更具挑战性的要求。

快速且功能强大 

  • 释放了新一代用于高速和高灵敏度数据采集CMOS-EBSD的能力                    
  • 实时采集、处理和显示高速数据
  • 利用64位处理的强大能力和多任务处理软件,在数据采集过程中,即可与您的数据交互

易用性

  • 系统设置和数据采集的导航流程,每个人每次能得到更正确的结果
  • 智能工具,如自动校正背底,提高样品结果的准确性

灵活性

  • 专家可通过调整设置来解决困难的应用
  • 使用功能强大的重新分析工具,对采集后的数据进行优化
  • 在可定制的报告中展示数据和结果

创新性

  • Tru-I®算法,以获得更多准确标定的电子背散射花样
  • EBSD和EDS的同步分析,包括利用EDS数据来区分相似的晶体结构
  • 高角度分辨率模式提供了出色的角度分辨率0.05°
  • 标配强大的功能,如TKD标定模式和用于高级数据分析的模块

* 正在申请专利

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下载中心

AZtecHKL

This 16 page brochure illustrates why AZtec is the leading EBSD analysis platform on the market. Covers both hardware and software.

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EBSD Explained

EBSD Explained is a 24 page tutorial that not only gives newcomers a solid foundation in the underlining of the subject, but also shows how the is applied in practice to get reliable and accurate EBSD results.

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Symmetry

Symmetry, the world's first EBSD based on CMOS sensor technology, is set to revolutionise EBSD analysis.

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AZtec Tru-I,EBSD标定引擎,能保证用户采集到高质量的花样并准确解析出来,整个过程自动完成且值得信赖。花样采集和解析是实时进行的。

采集高质量的花样对准确解析EBSD数据至关重要。
  • AZtec优化了系统设计,即使是高速或高像素合并条件下,也能采集到更好的花样。
    • 量化的信号强度和噪声可以测量花样质量。

动态背底校正使花样衬度达到优化。
  • 对所有的材料,都能采集到高质量的花样,包括多相材料中具有不同的原子序数的相。
  • 动态背底校正还能掩盖荧光屏的缺陷。
智能衍射带探测

AZtec开发了智能衍射带探测程序,以决定哪些探测到的衍射带用于标定。

  • 智能衍射带探测利用衍射带的平均强度以及它们在感兴趣区的位置
  • 它改善了标定率,特别是衍射花样模糊或花样质量差的材料

 

磁场校正解决了花样变形的问题

在某些应用中,从SEM镜筒中泄漏的高磁场会导致衍射花样变形。变形会导致衍射带弯曲,并改变花样中心,而AZtec则可以自动校正。

  • 校正会拉直衍射带并纠正花样中心,从而可以正确解析花样。
  • 偶极子校正参见仪器的美国专利号7442930B2。
分类标定

EBSD标定程序对获取准确结果至关重要——AZtec采用新的方法,分类标定。

  • 这个方法非常地稳健,就算探测得到的衍射带中有一条或者几条不在参考反射面列表里,也能标定出正确的解。
  • 这个系统对用户操作选择的衍射带数目不那么敏感。
分辨相似晶体结构

AZtec可以通过对比衍射带宽度来区分相似晶体结构,从而确定正确的相。

高精度算法

全新创新的“高精度算法”提升了传统EBSD分析能力,达到更高的准确性和细节。

  • 标定后精修探测到的衍射带位置,从而得到更准确的取向测量结果。
  • 克服Hough变换周知的局限。
  • Ni花样(下图)说明了优化的好处:
    • 花样A展示了最初按照Hough变换探测的衍射带位置;
    • 花样B展示了按照新方法精修后的衍射带位置。

AZtec 高精度模式带来了:

  • 业界更先进的测量准确度,而且是实时的
    • 增强了晶界的表征
    • 分辨精细的亚晶界结构
    • 优化了采集花样和解之间的匹配

AZtecHKL包括很多智能的EBSD采集工具,使得数据采集更快,更简单,更好

AutoCal
改变采集的条件后,每次点击仍然能采集到高质量的EBSD花样
  • 在整个SEM的工作距离和伸入距离范围内,常规采集准确数据——不需要重新校准
  • AutoCal是一套复杂的几何校准程序,它能根据几何变化,迅速自动校准参数。
  • 补偿电子束在低倍移动时带来的投影参数变化。
  • 这个系统很快且很容易设置,无论用户有没有经验。
AZtec根据采集条件的改变,自动且实时校正

为采集数据优化系统变得简单而自动

  • 自动曝光
  • 智能动态背底
  • 在用户完全控制
  • 改变SEM条件——、束流、放大倍数或样品台倾转——而无需重新校准
    • 仍然能采集优化的EBSD花样,并且正确解析

AutoLock

  • AutoLock 是一项集成的漂移校正工具,实时校正EBSD和EDS数据,以得到准确的结果。
  • 混合了预测和反应式漂移校正程序。
  • 在倾转和未倾转的样品上都能校正漂移。
  • 对高放大倍数纳米量级的EBSD采集尤为重要。
图像注册

所有AZtec采集的图像都可以用于样品导航和重新定位,在几天之后或在另一台电镜上都可以。

  • AZtec接管电镜样品台的控制,并流畅地重新定位到感兴趣的位置;
  • 在采集过程中,所有的图像和面分布图都自动注册,从而很容易重新定位到之前分析过的区域;
  • 很多图像都可以用来做导航,比如,EBSD面分布图也可以用来导航到感兴趣区;
  • 手动注册图像可以方便在另一天或另一台电镜上,进一步分析样品上专门的区域。

微观结构成像利用FSD(前散射)来找感兴趣区以便后续深入分析。AZtec与Symmetry的结合,对所有EBSD应用都是强有力的解决方案。

Symmetry探测最多可配置5个FSD。

  • AZtec可以单独采集每个FSD的图像
  • 可灵活定制混合这些图像的组合
  • 自动的彩色FSD图像,相比灰度图像更凸显细节

优化设置然后重新分析,无需重新采集数据。利用AZtecHKL,用户可以采集后处理数据或离线处理。

AZtecHKL重新分析是非常灵活的:

  • 优化求解器的设置,或增加相,然后离线重新分析数据;
  • 不需要在采集数据时知道样品中所有的相。

AZtec大面积拼图可以无人值守,在很大样品区域内采集高分辨率数据(同时采集图像,EBSD和EDS面分布图)。

  • 设置向导会在整个过程中引导用户,以完成大面积拼图的采集程序
  • 为EBSD的倾转几何专门设计,以保证整个采集过程中样品表面的聚焦
  • 在采集过程中自动对齐图像,以保证大面积拼图数据在剪辑前后都无缝拼接
  • 采集最多1500个视场,每个视场最多8k图像分辨率和4k EBSD面分布图分辨率,最多能生成960亿像素的图像和240亿像素的EBSD数据
  • 在采集数据过程中或采集完成之后交互:在大图中查看所有的数据,或放大查看细节
  • 一个单独剪辑的大数据(最大6400万数据点)可以在AZtec中提取出来。就像标准的感兴趣区一样,包含:
    • EDS面分布图,自动相分布图和EDS谱图
    • IPF,欧拉角,相分布图和单独的EBSD衍射花样

TKD(透射菊池衍射,也叫t-EBSD)技术,用来在SEM中利用透射模式采集EBSD数据,在纳米尺度的材料分析表征应用越来越广。

虽然近几年技术取得了重要的发展,但是传统的EBSD技术仍然受到衍射花样来源体积的局限,分辨率在25~100nm左右。这对于准确真实地测量纳米结构的材料(平均晶粒大小小于100nm)仍然不够。

基于SEM的新的衍射技术诞生了。它采用能穿透电子束的样品结合传统的EBSD硬件和软件。这项技术,通常叫做透射EBSD(t-EBSD: Keller and Geiss, 2012)或TKD(TKD:Trimby, 2012),已经证明能达到优于10nm的空间分辨率。

TKD 的优势
  • 空间分辨率优于10nm
  • 纳米结构材料的常规表征的理想技术
  • EBSD分析大变形样品

AZtec系统非常适合做TKD分析。它包含专门优化的TKD标定模式来采集准确的面分布图——甚至在纳米尺度。透射模式的EBSD花样具有较大的投影畸变,AZtec的TKD模式能更准确地检测衍射带,从而达到更高的标定率。

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