产品
FIB-SEM
Nanomanipulators
OmniProbeOmniProbe Cryo软件
AZtec3DAZtecFeatureAZtec LayerProbeTEM
Hardware
EDSUltim MaxXploreImaging
软件
AZtecTEM
Horizon 10k采用氩等离子体对平面或截面样品进行蚀刻和制备,与传统制样技术互为补充,开辟了复杂样品前处理的新路径。
便捷的试样固定、直观的软件界面和极少的手动操作使制样一致性得以保障。在提升制备效率的同时,消除了处理软质/难加工材料时可能引入的人为失误。
钢铁样品的EBSD物相和取向分布图。
传统机械抛光方式虽被广泛应用,却极易在软质或敏感样品上引入应力、划痕和污染。离子研磨可以确保样品表面无应变、无污染,展现材料的真实微观组织特征,适用于: